更新時(shí)間:2024-01-21
X熒光膜厚儀是通過(guò)一次X射線穿透金屬元素樣品時(shí)·產(chǎn)生低能量的光子,俗稱為二次熒光,,在通過(guò)計(jì)算二次熒光的能量來(lái)計(jì)算厚度值,一種無(wú)損、快速、精確的膜厚測(cè)試儀器,對(duì)金屬鍍層(鍍金、鍍錫、鍍鋅、鍍鋁、鍍鉛、鍍銀、鍍鎳等),廣泛應(yīng)用于電路板、連接器、金屬絲、鏈接插件、引線框架、汽車零部件、半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、五金工具等企業(yè)中,打破了國(guó)外(例如:德國(guó)Fischer)壟斷局面,在電鍍行業(yè)占有 一定地位
X熒光膜厚儀產(chǎn)品介紹
X熒光膜厚儀是通過(guò)一次X射線穿透金屬元素樣品時(shí)·產(chǎn)生低能量的光子,俗稱為二次熒光,,在通過(guò)計(jì)算二次熒光的能量來(lái)計(jì)算厚度值,一種無(wú)損、快速、精確的膜厚測(cè)試儀器,對(duì)金屬鍍層(鍍金、鍍錫、鍍鋅、鍍鋁、鍍鉛、鍍銀、鍍鎳等),廣泛應(yīng)用于電路板、連接器、金屬絲、鏈接插件、引線框架、汽車零部件、半導(dǎo)體、電子產(chǎn)品、五金工具等企業(yè)中,打破了國(guó)外(例如:德國(guó)Fischer)壟斷局面,在電鍍行業(yè)占有 一定地位,為企業(yè)提供有效解決方案。
X熒光膜厚儀技術(shù)參數(shù)
長(zhǎng)期工作穩(wěn)定性高,故障率低。
多變量非線性回收程序
相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型
元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)中間的任意金屬鍍層(鍍金、鍍錫、鍍鋅等)
一次可同時(shí)分析多達(dá)五層鍍層,快速、準(zhǔn)確。
zui薄可測(cè)試0.005μm
分析含量一般為2ppm到99.9%
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源
儀器尺寸:576(W) x 495 (D) x 545(H) mm
重量:90 kg
性能優(yōu)勢(shì)
鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)
良好的射線屏蔽作用
測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)
滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求
zui小φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求
高精度移動(dòng)平臺(tái)可精確定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度
定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊
檢測(cè)實(shí)例
銅鍍鎳樣品
測(cè)試譜圖
樣 品 名 | 成分Ni(%) | 鍍層Ni(um) |
吊扣 | 100 | 19.321 |
吊扣2# | 100 | 19.665 |
吊扣3# | 100 | 18.846 |
吊扣4# | 100 | 19.302 |
吊扣5# | 100 | 18.971 |
吊扣6# | 100 | 19.031 |
吊扣7# | 100 | 19.146 |
平均值 | 100 | 19.18314 |
標(biāo)準(zhǔn)偏差 | 0 | 0.273409 |
相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差 | 0 | 1.425257 |
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